반도 체 칩 클린 룸 (청정 실)

과학기술의 신속한 발전에 따라 반도체칩은 현대전자제품의 핵심부품의 하나로 되였다.반도체 칩의 품질과 생산 효율을 확보하기 위해서는 클린룸 구축이 중요해졌다.생산환경의 공기질에 대한 요구가 높으며 공기질은 생산율, 제품질과 관계된다.많은 반도체 산업은 클린룸을 필요로 합니다.

반도체 깨끗 한r움 원칙

클린룸 (Cleanroom)은 특정 공간 내의 공기 중에서 먼지 입자, 유해 가스, 박테리아 및 기타 오염 물질을 배제하고, 실내 온도, 청정도, 실내 압력, 공기 흐름 속도 및 분포, 소음 진동, 조명, 정전기 등을 필요한 일정 범위 내에서 제어하는 특수 설계된 방이다.즉,이 통제된 실내의 먼지 입자는 상당히 희귀합니다.

클린룸 기술의 장점입니다

반도체 제조 공정은 요구사항이 매우 높고 먼지가 많은 환경에 매우 민감합니다.클린룸 기술은 우수한 환경 제어 및 효과적인 필터링을 달성하여 제조 공정을 오염이 없거나 오염이 극히 적은 상태로 만들 수 있습니다.이는 반도체 제조 공정의 고품질, 고효율화에 대한 무한한 가능성을 제공한다.

현대 반도체 제품의 제조 과정에서 클린룸 기술의 주요 이점은 다음과 같습니다.

1.생산 효율 향상:클린룸에서 온도, 습도 및 기압과 같은 일련의 요소를 제어하여 제조 환경을 더 잘 조절함으로써 생산 효율을 향상시킬 수 있습니다.

2.제품 오염률 감소:클린룸의 공기 중 입자상 물질이 미세하게 필터링되어 오염이 적으므로 제품 오염률을 감소시킵니다.

3.제품 품질 향상:Clean 룸 기술은 제조 환경을 제어하고 비교적 일정한 온도와 습도를 유지할 수 있어 제품 품질을 향상시킬 수 있다.

4.생산 비용 절감:클린룸 기술을 통해 제품의 손상률을 낮추고 제품 품질을 향상시킬 수 있습니다.동시에, 그것은 또한 생산 비용을 줄여줍니다

공기 청결

반도체 재료 클린룸의 청결도 기준은 주로 100 급, 1000 급, 10000 급, 100000 급 등 높은 것에서 낮은 것으로 여러 단계로 나뉜다.그 중 100 급 청결 표준이 가장 높고 요구사항이 매우 엄격한 반면, 10000 급 청결 표준은 비교적 느슨하다.

100 등급 청결 기준은에서 가장 높은 수준의 청결 요구입니다반도체 소재 클린룸 (cleanroom)다.이 수준에서, 입자 상 물질의 농도에 공기는 할 필요 가 매우 낮과의 총 입자 입자 크기는 0. 5 μ m보다 크 거나 같 공기의 1 평방 인치 당 100을 초과 하지 않을 것이다.또한 미생물에 대한 요구도 매우 엄격하여 미생물이 전혀 없어야 한다.

클래스 1000 청결 표준하 려면 공기 중에 입자 상 물질 농도는 1000 먼지 입자를 초과 하지 않아야보다 크 거나 같아야 입방미터 당 0. 5 μ m다.미생물에 대한 요구량은 비교적 적고 일정한 수의 미생물이 존재할수 있도록 한다.

등급 10000 청결기준은 공기 중 입자상 물질의 농도가 입방미터당 10,000을 초과해서는 안 된다고 요구한다.미생물에 대한 요구조건은 비교적 느슨하며, 일정한 수의 미생물이 존재할 수 있도록 되어 있다.

100,000 청결도 수준 기준은 반도체 재료 클린룸에서 가장 낮은 수준의 청결도 요구입니다.이 기준에서 대기 중의 입자상 물질의 농도는 입방미터당 100,000을 초과하지 아니하여야 한다.미생물에 대한 요구조건은 비교적 느슨하며, 일정한 수의 미생물이 허용된다.

청정실에 대한 습도의 영향

1. 박테리아의 성장

2. 작업자들이 편안함을 느끼는 실내 온도의 범위 

3. static charge의 모습

4. 금속 부식

5. 수증기의 응축

6. photolithography의 저하

7. 물 흡수 식

반도체 제조는 온도 및 습도 조절에 대한 요구도 매우 엄격합니다.일반적으로 청정실의 온도는 섭씨 20-24도 사이에서 조절하고 습도는 30-60% 사이에서 조절한다.온도와 습도의 제어는 칩의 성능과 신뢰성에 중요한 영향을 미친다.

박테리아 및 기타 생물학적 오염물 (곰팡이, 바이러스, 곰팡이, 진드기)은 상대습도 60% 이상의 환경에서 활발하게 번식할 수 있습니다.습도는 40%에서 60% 사이로 조절해야 세균과 호흡기 감염의 영향을 최소화할 수 있는데,이 역시 사람이 편안함을 느낄 수 있는 적당한 범위이다.

클린 워크샵 디자인의 핵심 포인트

1. 건축 설계를 위한 생산 공정의 요구 사항을 충족하고 고성능 제조 공간 및 설비를 실현합니다.정화프로젝트의 청정작업장의 총계획, 평면배치 및 단면설계를 설계할 때에는 현장의 합리적인 이용과 공정생산의 요구사항을 충분히 고려하여야 한다.정화 청정작업장 프로젝트의 건물을 설계할 때 청정지역과 관련 보조지역과의 관계를 잘 처리해야 한다.

2. 경제적으로 운용할 수 있고, 에너지를 절약할 수 있으며, 유지 보수가 용이하고 건설 비용을 절감할 수 있는 시설을 실현합니다.정화클린작업장의 건축설계는 정화클린작업장이 깨끗하고 청소가 용이하며 내외부의 오염을 방지하고 입자의 생성, 보유 및 축적을 방지하여야 한다.

3. 신뢰성이 높은 작동 설비를 사용해야 합니다.정화 클린 작업장의 건축 설계는 건축 장비의 안전한 작동을 보장하고, 사고 발생시 인원과 재산의 안전을 보장해야합니다.주요 구조물은 정화 클린 작업장의 공정 장비, 건물 처리 및 장식의 수준, 클린 작업장의 내구성 및 내화성과 일치하는 등급 수준을 가져야 하며 장식은 장비 수준과 조정되어 투자가 오랫동안 지속되도록 해야 합니다.

4. 미래의 변화에 적응할 수 있는 설비를 실현해야 한다.클린 작업장의 건축 평면과 공간 배치는 생산 공정의 조정을 위한 조건을 창조하기 위해 유연해야 한다.

반도체 클린룸 표준은 반도체 제조의 성공과 직결되는 매우 중요한 표준이다.클린룸 표준을 엄격하게 준수함으로써 반도체 제조 공정의 공기 질, 온도 및 습도, 정전기 제어 및 기타 측면이 요구 사항을 충족하도록 보장함으로써 칩의 제조 품질과 성능을 보장할 수 있습니다.향후 반도체 제조 과정에서 클린룸 표준은 지속적으로 중요한 역할을 발휘할 것이며 반도체 산업의 발전을 위해 강력한 지원을 제공할 것이다.